Attivi Puri glinkowa maska z kwasem salicylowym i cynkiem PCA 75ml
Ten produkt jest obecnie wyprzedany.
Podaj swój adres e-mail, a powiadomimy Cię, gdy tylko produkt będzie ponownie dostępny.
Działanie: matujące, oczyszczające, redukcja porów, redukuje wypryski, równoważące
Gramatura: ml
Konsystencja: maska
Linie elitarne: tak
Pielęgnacja specyficzna: maska
Pojemność: 75
Pora stosowania: dowolnie, raz na jakiś czas
Płeć: damski
Rodzaj skóry: wrażliwa
Słońce: nie
Typ skóry: mieszana/tłusta, normalna, sucha
Opis
Delikatny zabieg oczyszczający na bazie glinki, który skutecznie usuwa zanieczyszczenia i matuje skórę. Formuła zawiera kwas salicylowy, aktywny składnik zwalczający niedoskonałości, który głęboko oczyszcza pory. Działanie kwasu salicylowego wspiera cynk PCA, składnik o podwójnym działaniu: reguluje nadmiar sebum i przywraca skórze równowagę. Formuła została również wzbogacona o niacynamid, który pomaga zwęzić pory. Produkt odpowiedni dla każdego rodzaju cery, w tym także wrażliwej.
Sposób użycia: Nałożyć na oczyszczoną skórę twarzy i pozostawić na 10 minut, a następnie spłukać lub usunąć wilgotną ściereczką.
Działanie: matujące, oczyszczające, redukcja porów, redukuje wypryski, równoważące
Gramatura: ml
Konsystencja: maska
Linie elitarne: tak
Pielęgnacja specyficzna: maska
Pojemność: 75
Pora stosowania: dowolnie, raz na jakiś czas
Płeć: damski
Rodzaj skóry: wrażliwa
Słońce: nie
Typ skóry: mieszana/tłusta, normalna, sucha
Uwagi:
Tylko do użytku zewnętrznego. Unikać kontaktu z oczami.
Składniki:
AQUA, KAOLIN, CETEARYL ALCOHOL, GLYCERIN, GLYCERYL STEARATE, ZINC PCA, SALICYLIC ACID, NIACINAMIDE, ACRYLATES/C10-30 ALKYL ACRYLATE CROSSPOLYMER, HYDROXYACETOPHENONE, CI 77288, POLYACRYLATE CROSSPOLYMER-6, CAPRYLYL GLYCOL, 1,2-HEXANEDIOL, SODIUM HYDROXIDE, T-BUTYL ALCOHOL, POLYDEXTROSE, AMYLOPECTIN, DEXTRIN.
| Waga | 110 g |
|---|---|
| Wymiary | 62 × 154 mm |


METODY DOSTAWY
- Kurier
- Paczkomaty
- Odbiór osobisty
METODY PŁATNOŚCI
- Płatności online
- Przelew bankowy
- Blik

Opinie
Na razie nie ma opinii o produkcie.